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  光學元件加工的表面質(zhì)量是限制大功率激光裝置負載能力提高的主要因素之一，阻礙了慣性約束核聚變的發(fā)展。超光滑表面拋光技術是光學元件加工中應用鐸的表面處理技術。目前，有許多成熟的拋光方法，其中化學機械拋光(CMP)應用多，是一種復合加工方法，是能提供光滑的拋光技術。影響拋光效果的因素有很多。鈰基拋光液作為拋光系統(tǒng)的重要組成部分，其性能將直接決定拋光元件的表面質(zhì)量。鈰基拋光液的性能包括磨料顆粒的粒度分布、懸浮穩(wěn)定性、分散性、硬度和各種添加劑的協(xié)同作用。拋光液中的添加劑對拋光液的性能有很大的影響。因此，拋光液的部署尤為重要，是化學機械拋光領域的熱點之一。